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标题: 硅片清洗改进 [打印本页]

作者: yanghui55315706 时间: 2008-12-10 15:31
标题: 硅片清洗改进
我公司目前硅片清洗时间：HCl酸9min→水3min→HF酸3min→水9min
我想请教一下各位大哥有没有什么很好的改进方案，比如说怎样缩短酸的清洗时间，溶液浓度应该怎样配比。
谢谢啊

作者: wlbcross123 时间: 2008-12-10 22:17

我们也想知道我们公司的流程及工艺，可惜，这是公司的机密

作者: yanghui55315706 时间: 2008-12-12 03:16
不用这样吧？大哥

作者: huaq 时间: 2008-12-19 08:12
从没有看到过这样问别的公司的技术机密的，你也换个方式呢，真是的，以为别人都是笨蛋！

作者: yiyi 时间: 2008-12-19 10:22
没有酸的浓度有什么用啊????????????

:Q :Q :Q :Q

作者: happy99 时间: 2009-1-9 14:49
不容易搞到

作者: johnson 时间: 2009-2-1 21:28
请吿诉工序，不同工序不一样

作者: haizhifeng99 时间: 2009-5-24 15:01
你们那用的那里的清、洗机

作者: yzyyl 时间: 2009-6-6 09:50
你们为什么不用配好的硅片专用清洗剂呢

作者: bingmaying 时间: 2010-12-12 10:21
我们用的是专门的清洗剂，还不错

作者: lanhaizhimeng 时间: 2011-3-1 14:40
这个东西好像每个公司都是不同的啊

作者: qq119723202 时间: 2011-5-29 13:48
楼上的说的对，用专用的清洗剂就行啦，用2个曹，每个曹2000毫升，7个曹一共洗14分钟

作者: hbzlk518 时间: 2011-6-13 15:27
清洗剂也是鱼龙混杂。

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