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标题: 单晶硅清洗用超纯水设备原理 [打印本页]

作者: 模样 时间: 2015-3-26 16:44
标题: 单晶硅清洗用超纯水设备原理
　　部分原水进入纯化系统流入树脂膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。阳树脂会截留水中的溶存离子。然而被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。阳离子透过阳离子膜，排出树脂膜之外。阴离子透过阴离子膜，排出树脂膜之外。之后浓缩了的离子从废水流路中排出。去离子水从树脂膜内流出。

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