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[技术交流] 硅片清洗改进

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yanghui55315706
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楼主
发表于 2008-12-10 15:31:41 | 显示全部楼层 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
我公司目前硅片清洗时间：HCl酸9min→水3min→HF酸3min→水9min
    我想请教一下各位大哥有没有什么很好的改进方案，比如说怎样缩短酸的清洗时间，溶液浓度应该怎样配比。
           谢谢啊
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yanghui55315706
2#
 楼主| 发表于 2008-12-12 03:16:35 | 显示全部楼层
不用这样吧？大哥
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